電子級(jí)HEDTA（羥乙基乙二胺三乙酸）**  

**HEDTA**（Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid）是一種高效螯合劑，常用于電子工業(yè)中的超純清洗和表面處理工藝。其分子結(jié)構(gòu)中含有一個(gè)羥基，使其在酸性條件下仍具有良好的金屬離子螯合能力，尤其適用于對(duì)鐵（Fe3?）和銅（Cu2?）等重金屬的去除。

3. 主要應(yīng)用

半導(dǎo)體制造

晶圓清洗：用于 RCA清洗 或 post-etch清洗，去除金屬污染物（如Fe、Cu）。  

CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）后清洗：防止金屬離子殘留影響器件性能。  

光刻膠去除輔助劑：提高去膠效率，減少金屬污染。  

PCB和顯示面板制造

電鍍液穩(wěn)定劑：防止金屬離子沉積，提高鍍層均勻性。  

蝕刻液添加劑：延長(zhǎng)槽液壽命，減少雜質(zhì)影響。  

光伏行業(yè)

硅片清洗：去除切割/制絨過(guò)程中的金屬污染，提升太陽(yáng)能電池效率。  

4）電子化學(xué)品配方  

用于高純 刻蝕液、顯影液、清洗劑** 的配制。