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主營產(chǎn)品:薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等
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SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機
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更新時間:2025/07/23
晶圓清洗設備 SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)
商家暫時不對外公布