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ジフルオロキセノン(II)

ジフルオロキセノン(II) price.
  • ￥28820 - ￥224500
  • 化學名: ジフルオロキセノン(II)
  • 英語名: XENON DIFLUORIDE
  • 別名:キセノン(II)ジフルオリド;ふっ化キセノン;ジフルオロキセノン(II);ふっ化キセノン(II), 99.5%
  • CAS番號: 13709-36-9
  • 分子式: F2Xe
  • 分子量: 169.29
  • EINECS:237-251-2
  • MDL Number:MFCD00040538
7物価
選択條件：
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 関東化學株式會社(KANTO)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 1g
  • 2g
  • 5g
  • 10g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM54-1500
  • 製品説明ふっ化キセノン(II), 99.5%
  • 英語製品説明Xenon(II) fluoride, 99.5%
  • 包裝単位10g
  • 価格￥224500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01MAS004362
  • 製品説明二ふっ化キセノン
  • 英語製品説明Xenon difluoride
  • 包裝単位5g
  • 価格￥199200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01MAS004362
  • 製品説明二ふっ化キセノン
  • 英語製品説明Xenon difluoride
  • 包裝単位1g
  • 価格￥91500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM54-1500
  • 製品説明ふっ化キセノン(II), 99.5%
  • 英語製品説明Xenon(II) fluoride, 99.5%
  • 包裝単位2g
  • 価格￥64500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化學株式會社(KANTO)
  • 製品番號27855-1A
  • 製品説明二ふっ化キセノン >99.5%
  • 英語製品説明Xenon difluoride >99.5%
  • 包裝単位1g
  • 価格￥28820
  • 更新しました2024-07-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號394505
  • 製品説明二フッ化キセノン 99.99% trace metals basis
  • 英語製品説明Xenon difluoride 99.99% trace metals basis
  • 包裝単位5g
  • 価格￥159000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號394505
  • 製品説明二フッ化キセノン 99.99% trace metals basis
  • 英語製品説明Xenon difluoride 99.99% trace metals basis
  • 包裝単位1g
  • 価格￥47100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番號 製品説明 包裝単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM54-1500 ふっ化キセノン(II), 99.5%
Xenon(II) fluoride, 99.5% 		10g ￥224500 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01MAS004362 二ふっ化キセノン
Xenon difluoride 		5g ￥199200 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01MAS004362 二ふっ化キセノン
Xenon difluoride 		1g ￥91500 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM54-1500 ふっ化キセノン(II), 99.5%
Xenon(II) fluoride, 99.5% 		2g ￥64500 2024-03-01 購入
関東化學株式會社(KANTO) 27855-1A 二ふっ化キセノン >99.5%
Xenon difluoride >99.5%		 1g ￥28820 2024-07-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 394505 二フッ化キセノン 99.99% trace metals basis
Xenon difluoride 99.99% trace metals basis		 5g ￥159000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 394505 二フッ化キセノン 99.99% trace metals basis
Xenon difluoride 99.99% trace metals basis		 1g ￥47100 2024-03-01 購入

プロパティ

融點  :129 °C (lit.)
沸點  :114.35°C (estimate)
比重(密度)  :4.32 g/mL at 25 °C (lit.)
蒸気圧 :3.8 mm Hg ( 25 °C)
閃點  :None
貯蔵溫度  :Store at +2°C to +8°C.
溶解性 :Acetonitrile (Slightly), DMSO (Slightly)
外見  :Crystals
比重 :4.320
色 :White
水溶解度  :Decomposes in water.
Sensitive  :Moisture Sensitive
Merck  :14,10072
暴露限界値 :ACGIH: TWA 2.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 250 mg/m3; TWA 2.5 mg/m3 安定性： :Stable. Incompatible with air, moisture. Releases fluorine on decomposition. Contact with combustible material may cause fire. (Traces of xenon tetrafluoride are sometimes found with this material. When exposed to moisture, the tetrafluoride may form the explosive xenon trioxide.)
InChIKey :IGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-N
CAS データベース :13709-36-9(CAS DataBase Reference)
EPAの化學物質情報 :Xenon fluoride (XeF2) (13709-36-9)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictogramsGHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語: Danger
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H272 火災助長のおそれ；酸化性物質 酸化性液體; 酸化性固體 2
3		 危険
警告		 GHS hazard pictograms P210, P220, P221P280, P370+P378,P501
H301 飲み込むと有毒 急性毒性、経口 3 危険 GHS hazard pictograms P264, P270, P301+P310, P321, P330,P405, P501
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
H330 吸入すると生命に危険 急性毒性、吸入 1, 2 危険 GHS hazard pictograms P260, P271, P284, P304+P340, P310,P320, P403+P233, P405, P501
注意書き:
P210 熱/火花/裸火/高溫のもののような著火源から遠ざ けること。－禁煙。
P260 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を著用するこ と。
P303+P361+P353 皮膚（または髪）に付著した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脫ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

Used as Fluorinating agent and oxidizing agent, gaseous etchant for silicon, particularly in the production of microelectromechanical systems (MEMS).