羥甲基磺酸鈉（Sodium Hydroxymethanesulfonate, HMS）概述

羥甲基磺酸鈉（化學(xué)式：HOCH?SO?Na）是一種水溶性有機(jī)磺酸鹽，兼具還原性、絡(luò)合性和穩(wěn)定性，廣泛應(yīng)用于紡織印染、水處理、電鍍、化妝品等領(lǐng)域。其分子中的羥甲基（-CH?OH）和磺酸基（-SO??）賦予其獨特的化學(xué)性能。

1. 基本特性

2. 合成方法

（1）甲醛與亞硫酸氫鈉反應(yīng)（主流工藝）

$$\text{HCHO}+{\text{NaHSO}}_3\to {\text{HOCH}}_2{\text{SO}}_3\text{Na}$$

• 步驟：

1. 將37%甲醛溶液與40%亞硫酸氫鈉溶液按1:1摩爾比混合。

2. 控制溫度40-60℃，反應(yīng)2-4小時（pH 4-5）。

3. 濃縮、結(jié)晶或直接調(diào)配成液體產(chǎn)品。

（2）副產(chǎn)物回收法

• 從制藥或化工廢液中回收羥甲基磺酸鈉（環(huán)保但純度較低）。

3. 核心應(yīng)用領(lǐng)域

（1）紡織印染

• 還原劑：

• 替代保險粉（連二亞硫酸鈉）用于還原染料染色，減少環(huán)境污染。

• 與蒽醌類染料協(xié)同使用，提高色牢度。

• 漂白助劑：

• 在棉織物過氧化氫漂白中，抑制纖維損傷（絡(luò)合金屬離子）。

（2）水處理

• 重金屬螯合劑：

• 絡(luò)合Cu2?、Fe3?等（尤其適用于電鍍廢水處理）。

• 鍋爐水除氧劑：

• 通過還原作用去除水中溶解氧，防止管道腐蝕。

（3）電鍍工業(yè)

• 鍍液穩(wěn)定劑：

• 抑制酸性鍍銅液中Cu?的氧化，減少鍍層粗糙。

（4）個人護(hù)理

• 化妝品防腐增效劑：

• 與甲醛緩釋型防腐劑（如DMDM乙內(nèi)酰脲）復(fù)配，降低游離甲醛含量。

• 洗發(fā)水：

• 調(diào)節(jié)黏度，改善低溫穩(wěn)定性。

4. 作用機(jī)制

• 還原性：羥甲基磺酸鈉中的-CH?OH可被氧化為-COOH，提供電子。

• 絡(luò)合性：磺酸基與金屬離子（如Fe3?）形成穩(wěn)定水溶性絡(luò)合物。

• pH緩沖：維持體系近中性，避免強(qiáng)酸/堿腐蝕。