N-甲基吡咯烷(N-Methylpyrrolidone,NMP)在工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,主要得益于其強(qiáng)溶解性、低揮發(fā)性、高熱穩(wěn)定性和低毒性(相對其他溶劑)。以下是其在工業(yè)中的主要應(yīng)用領(lǐng)域及具體用途:
電極漿料溶劑:NMP是制備鋰離子電池電極(正極/負(fù)極)的關(guān)鍵溶劑,用于溶解PVDF(聚偏二氟乙烯)粘結(jié)劑,使活性物質(zhì)(如LiCoO?、石墨)均勻涂布在鋁箔/銅箔上。
優(yōu)勢:高溶解性、成膜性好,烘干后可回收再利用(需配套回收系統(tǒng))。
替代趨勢:因潛在生殖毒性,部分企業(yè)嘗試用水性溶劑(如CMC/SBR體系)替代,但目前NMP仍是主流。
光刻膠剝離:用于去除硅片或液晶面板上的光刻膠殘留。
精密清洗:清洗半導(dǎo)體器件、LCD玻璃基板上的有機(jī)物和顆粒污染物。
聚酰亞胺(PI)溶劑:合成耐高溫聚酰亞胺薄膜(如柔性電路板基材、航天材料)。
聚苯硫醚(PPS):作為PPS樹脂的聚合溶劑。
芳綸纖維:溶解聚對苯二甲酰對苯二胺(PPTA)用于紡絲。
高性能涂料:用于環(huán)氧樹脂、聚氨酯等涂料的稀釋或剝離。
PCB油墨:印刷電路板(PCB)的感光油墨溶劑。
脫硫脫碳:選擇性吸收天然氣、煉廠氣中的H?S、CO?等酸性氣體(因其對硫化物的高親和力)。
芳烴萃取:從烴類混合物中分離苯、甲苯等芳烴。
用于潤滑油基礎(chǔ)油的精制,去除雜質(zhì)和極性化合物。
藥物合成:作為反應(yīng)溶劑或中間體,如抗生素、維生素的制備。
農(nóng)藥制劑:溶解農(nóng)藥活性成分,提高制劑穩(wěn)定性。
工業(yè)清洗:清洗金屬零件、精密儀器上的油脂或樹脂殘留。
3D打印:用于某些光固化樹脂的支撐材料去除。
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