化學式：TaN 或 Ta?N?。TaN 為立方晶系，Ta?N?為六方晶系。

外觀：通常呈金黃色或古銅色。這一獨特的顏色使其在外觀上與許多其他材料有所區(qū)別，例如在作為涂層材料時，能夠通過顏色初步判斷其是否存在。

CAS 號：12033 - 62 - 4（TaN）。

硬度：氮化鉭具有較高的硬度，其硬度僅次于金剛石，這種高硬度特性使得它在耐磨材料領域具有重要的應用價值。例如，在刀具涂層方面，能夠顯著提高刀具的耐磨性，延長刀具的使用壽命。

熔點：具有較高的熔點，TaN 的熔點約為 3090℃，Ta?N?的熔點也較高，這使得它能夠在高溫環(huán)境下保持結構穩(wěn)定，可應用于高溫部件。

導電性：它是一種良好的導體，其導電性在電子器件等領域發(fā)揮著重要作用。例如，在集成電路中作為電極材料或?qū)щ妼?，能夠有效地傳導電流?/p>

密度：密度較大，約為 14.4g/cm3（TaN），這一特性在材料的結構設計和應用場景選擇中需要考慮，比如在航空航天等對材料重量有嚴格要求的領域，需要權衡其性能和重量之間的關系。

穩(wěn)定性：化學性質(zhì)較為穩(wěn)定，在常溫下不易與大多數(shù)物質(zhì)發(fā)生化學反應。但在高溫、強酸或強堿等特定條件下，可能會發(fā)生反應。例如，在強氧化性酸的作用下，氮化鉭的結構可能會被破壞。

抗氧化性：具有良好的抗氧化性能，能夠在一定程度的氧化環(huán)境中保持自身性能。這使得它在一些需要抗氧化涂層的材料表面處理中得到應用，如在高溫抗氧化涂層和耐腐蝕涂層方面。

物理氣相沉積（PVD）法：這是一種常用的制備氮化鉭薄膜的方法。通過在高溫下將鉭源（如鉭金屬）蒸發(fā)，然后與氮氣或氨氣等反應氣體混合，在基底表面沉積形成氮化鉭薄膜。這種方法可以精確控制薄膜的厚度和質(zhì)量，常用于電子器件和光學器件的表面涂層。

化學氣相沉積（CVD）法：利用氣態(tài)的鉭化合物（如氯化鉭）和含氮氣體（如氨氣）在高溫和催化劑的作用下發(fā)生化學反應，在基底上生成氮化鉭。這種方法可以大面積制備氮化鉭薄膜，并且能夠獲得較高的薄膜質(zhì)量。

高溫氮化法：將鉭金屬置于高溫（通常在 1000 - 1500℃）的氮氣或氨氣環(huán)境中，使鉭與氮發(fā)生反應生成氮化鉭。這種方法可以制備塊狀或粉末狀的氮化鉭，但可能會因為反應溫度高而導致材料內(nèi)部出現(xiàn)缺陷。

電子工業(yè)：在電子芯片制造中，氮化鉭作為擴散阻擋層可以防止金屬原子的擴散，從而提高集成電路的性能和可靠性。同時，它還可以作為電極材料和電容材料，用于制造高性能的電子元件。

刀具涂層：將氮化鉭涂覆在刀具表面，可以提高刀具的硬度、耐磨性和切削性能。這種涂層刀具在金屬加工、機械制造等領域得到廣泛應用，能夠有效地提高加工效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

光學領域：氮化鉭薄膜具有一定的光學特性，如高折射率和良好的光吸收特性，可用于制造光學薄膜、濾光片和反光鏡等光學器件。

高溫結構材料：由于其耐高溫和抗氧化的特性，氮化鉭可以作為高溫結構材料的組成部分，用于航空航天、能源等領域的高溫部件，如發(fā)動機的熱部件和高溫爐的內(nèi)襯等。