トリメチルシリルアセチレン
安全性情報
- リスクと安全性に関する聲明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 主な危険性 |
F,Xi |
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| Rフレーズ |
11-36/37/38 |
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| Sフレーズ |
16-26-36 |
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| RIDADR |
UN 1993 3/PG 2 |
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| WGK Germany |
- |
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| Hazard Note |
Flammable/Irritant |
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| TSCA |
T |
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| 國連危険物分類 |
3 |
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| 容器等級 |
II |
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| HSコード |
29310095 |
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| 消防法 |
危-4-1-II |
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| 化審法 |
(2)-3779 |
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| 絵表示（GHS） |
 
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| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
區(qū)分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H225 |
引火性の高い液體および蒸気 |
引火性液體 |
2 |
危険 |
|
P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501 |
| H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
| H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
|
P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
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| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高溫のもののような著火源から遠ざ けること。－禁煙。 |
| P233 |
容器を密閉しておくこと。 |
| P240 |
容器を接地すること/アースをとること。 |
| P241 |
防爆型の電気機器/換気裝置/照明機器/．．．機器を使 用すること。 |
| P303+P361+P353 |
皮膚（または髪）に付著した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脫ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
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トリメチルシリルアセチレン 価格
もっと(39)
| メーカー |
製品番號 |
製品説明 |
CAS番號 |
包裝 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
|
W01MAS004348 |
(トリメチルシリル)アセチレン
(Trimethylsilyl)acetylene |
1066-54-2 |
5g |
￥11500 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
|
W01FLCS18950 |
トリメチルシリルアセチレン
Trimethylsilylacetylene |
1066-54-2 |
500g |
￥157500 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
|
W01APOOR18355 |
(トリメチルシリル)アセチレン
(Trimethylsilyl)acetylene |
1066-54-2 |
25g |
￥6200 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
|
W01APOOR18355 |
(トリメチルシリル)アセチレン
(Trimethylsilyl)acetylene |
1066-54-2 |
100g |
￥16300 |
2024-03-01 |
購入 |
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東京化成工業(yè)
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T1239 |
トリメチルシリルアセチレン >98.0%(GC)
Trimethylsilylacetylene
>98.0%(GC) |
1066-54-2 |
5mL |
￥5000 |
2024-03-01 |
購入 |
トリメチルシリルアセチレン 化學(xué)特性,用途語,生産方法
外観
無色～うすい黃色、液體
用途
有機合成原料。
用途
有機合成化學(xué)では、アリール基に縮合させた後、容易にトリメチルシリル基を除去することができるためアルキニル化アリールを合成するときによく用いられる。アリール基にTMSAをカップリングさせる反応にはヘイカップリングや薗頭カップリングがある。
用途
ジチエノチオフェン誘導(dǎo)體の合成。
化學(xué)的特性
CLEAR COLORLESS LIQUID
物理的性質(zhì)
bp 53 °C; d 0.695 g cm?3.
使用
Trimethylsilylacetylene is a valuable reagent used in ethynylation by palladium(0)-catalyzed coupling/condensation
with aryl and vinyl halides and triflates, or by nucleophilic attack
of the corresponding acetylide on electrophilic centers; reacts with alkyl iodides, tin hydrides,6 and dichloroketene in a
regioselective and stereoselective manner, participating in the following synthesis reactions: Ethynylations, Palladium(0)-Catalyzed Coupling Reactions,Reaction of Trimethylsilylacetylides with Electrophiles, Radical-Initiated and Transition Metal-Catalyzed Additions, Cycloaddition Reactions, Ethynylations, Cycloaddition Reactions, Further Transformations etc.
一般的な説明
Laser-induced polymerization of gaseous ethynyltrimethylsilane was used for efficient chemical vapour deposition of polycarbosilane films. Ethynyltrimethylsilane acts as substrate for nickel-catalyzed cross-coupling with benzonitriles.
合成
A solution of chlorotrimethylsilane (152 mL, 130 g, 1.197 mol) in dry THF (100 mL) is placed in the 1-L dropping funnel. It is added (20 min) to the cooled and stirred solution of ethynylmagnesium chloride at a rate sufficient to maintain a reaction temperature of about 15–20°C. Finally, the dropping funnel is replaced by an efficient double-surface condenser and calcium chloride drying tube, and the reaction mixture is heated under reflux for 1 hr. The reflux condenser is replaced by a distillation head, and a double-surface condenser is connected to a receiver flask, which is cooled in an ice bath. The reaction mixture is distilled under nitrogen with stirring until all the azeotrope of trimethylsilylacetylene and THF (700–800 mL, bp ca. 66°C) has been distilled. The distillate is washed with ice–water portions (10 × 500 mL) to remove the THF. Washing is continued until the organic layer stays constant in volume. Distillation of the organic layer under an atmosphere of nitrogen through a short Vigreux column gives trimethylsilylacetylene, bp 50–52°C/760mm, nD20 1.391.
純化方法
Distil it through an efficient column. The IR has bands at max 2041 (CC) and 3289 (C-H) cm-1. [Kr.hnke & Goss Chem Ber 92 30 1959, Beilstein 4 IV 3937.]
トリメチルシリルアセチレン 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
トリメチルシリルアセチレン 生産企業(yè)
Global( 562)Suppliers
トリメチルシリルアセチレン スペクトルデータ(1HNMR、FT-IR、IR、Raman)
1066-54-2(トリメチルシリルアセチレン)キーワード:
- 1066-54-2
- Ethynyltrimethylsilane~TMS acetylene
- Trimethylethynylsilane
- ETHYNYLTRIMETHYLSILANE, WACKER-QUALITY
- (TRIMETHYLSILYL)ACETYLENE, 98+%
- Trimethylsilylacetylene,min.97%
- Trimethylsil yace tylene
- Thimethylsilylacetylene
- TMSA, Trimethylsilylacetylene
- Trimethylsilylacetylene, min. 97%
- Acetylene, trimethylsilyl-
- Ethyne,-trimethylsilyl
- ethynyltrimethyl-silan
- Silane, ethynyltrimethyl-
- Silane, trimethyl-, ethynyl-
- Silane,ethynyltrimethyl-
- TriMethyl silicon-based acetylene
- Trimethylsilylacetylene, TMSA,Trimethylethynylsilane
- Trimethylsilylacetylene TMSA
- Trimethylsilacetylene
- Trimethylsiyl Acetylene (TMSA), 99%
- TRIMETHYLSILYLACETYLENE
- Timethylsilyacetylene
- Trimethylsilylacetylene ,97%
- Ethynyltrimethylsilane,Trimethylsilylacetylene
- TriMethylsilylacetylene, 98% 100GR
- TriMethylsilylacetylene, 98% 25GR
- TriMethylsilylacetylene, 98% 5GR
- TiMethylsilylacetylene (TMSA)
- TRIMETHYLSILYLACETYLENE FOR SYNTHESIS
- (TRIMETHYLSILYL)ACETYLENE, 98+%(TRIMETHYLSILYL)ACETYLENE, 98+%(TRIMETHYLSILYL)ACETYLENE, 98+%
- トリメチルシリルアセチレン
- 1-トリメチルシリルエチン
- 1-(トリメチルシリル)エチン
- (トリメチルシリル)エチン
- トリメチルエチニルシラン
- エチニルトリメチルシラン
- トリメチルシリルエチン
- トリメチル(エチニル)シラン
- (トリメチルシリル)アセチレン
- 1-(トリメチルシリル)アセチレン
- TMSアセチレン
- 構(gòu)造分類
- 官能基化アセチレン
- 機能性材料
- 有機合成化學(xué)
- LB膜
- Si-(C)4化合物
- アセチレン
- エチニルシラン
- ケイ素化合物
- ケイ素化合物 (合成用)
- ジイン化合物 (LB膜)